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칩 제조에서 공압 기술의 적용 및 장점

보기 : 20     저자 : 사이트 편집기 게시 시간 : 2025-09-04 원산지 : 대지

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칩 제조 공정에서 정밀도, 청결 및 자동화는 생산 품질에 영향을 미치는 주요 요인입니다. 공압 기술은 오염이없고, 고정밀, 빠른 응답 및 쉬운 제어로 인해 칩 제조의 많은 링크에서 널리 사용되었습니다. 웨이퍼 처리, 정밀 공기 흐름 제어, 청소, 포장 및 기타 프로세스에서 공압 기술은 필수 불가결 한 역할을합니다. 이 기사는 칩 제조에서 공압 기술의 핵심 응용 프로그램과 주요 장점을 탐구 할 것입니다.

 

칩 제조에서 공압 기술의 핵심 적용

1. 웨이퍼 처리 및 자동 변속기

칩 제조 환경에는 매우 높은 청결 (깨끗한 실내 환경)이 필요하며 전통적인 기계적 취급 방법은 입자 오염이 발생하기 쉽습니다. 공압 시스템은 진공 흡착, 공기 서스펜션 전송 및 기타 방법을 통한 비접촉식 처리를 달성하여 웨이퍼에 대한 기계적 응력 손상을 피하고 생산 수율을 향상시킵니다. 예를 들어:

진공 흡입 컵 : 먼지 오염을 줄이기 위해 웨이퍼를 안정적이고 정확하게 파악하고 방출하는 데 사용됩니다.

공기 서스펜션 운송 시스템 : 공기 흐름을 사용하여 웨이퍼를 중단하여 마찰이없는 전송을 달성하고 오염 위험을 줄입니다.

 

2. 정밀 가스 흐름 제어 (리소그래피, 에칭, 증착)

칩 제조에는 리소그래피, 혈장 에칭, 박막 증착 등과 같은 여러 나노 스케일 처리 단계가 포함됩니다. 이러한 공정에는 매우 높은 가스 흐름 제어 정확도가 필요합니다. 공압 기술은 가스 전달, 압력 조절, 흐름 제어 등의 주요 역할을합니다.

공압 압력 조절 밸브 : 에칭 및 증착 공정에 필요한 공정 가스 흐름을 정확하게 제어하는 ​​데 사용됩니다.

초소형 가스 전달 시스템 : 칩 표면을 오염시키는 화학 반응을 피하기 위해 불활성 가스 (예 : 질소 및 아르곤)의 안정적인 공급을 보장합니다.

 

3. 웨이퍼 청소 및 건조

칩 제조 공정에서 먼지와 화학 잔류 물을 제거하려면 웨이퍼를 여러 번 청소해야합니다. 청소 및 건조에 공압 기술의 적용에는 다음이 포함됩니다.

공압 초음파 청소 : 초음파 및 기포 버스트 효과를 사용하여 입자 제거 기능을 향상시킵니다.

비 연락 에어 나이프 건조 : 고압 청정 공기를 사용하여 웨이퍼 표면에 수분을 날려 물 자국을 피하고 청결을 향상시킵니다.

 

4. 칩 포장 및 테스트

칩 포장은 제조 공정의 마지막 단계입니다. 공압 시스템은 재료 전달, 자동 패치, 칩 테스트 및 기타 링크 포장에 사용될 수 있습니다. 예를 들어:

공압 포장 기계 : 압축 공기를 사용하여 로봇 암을 제어하여 포장재를 정확하게 배치하십시오.

공압 압력 제어 : 테스트 단계에서 칩이 내구성과 전도도를 확인하기 위해 적절한 압력을 받는지 확인하십시오.

 

칩 제조의 공압 기술 2

공압 기술의 장점

깨끗한 방 환경에 적합한 오염이 없습니다

공압 시스템은 주로 윤활유 또는 유압유를 포함하지 않고 압축 공기에 의존하므로 반도체 산업의 초소형 요구 사항을 완전히 충족시키는 입자 오염이 없을 것입니다.

 

높은 정밀도와 안정성

최신 공압 제어 기술은 압력, 흐름 및 가스 순도를 정확하게 조정하여 각 칩 처리 링크의 안정성을 보장 할 수 있습니다. 예를 들어, 고정밀 압력 조절 밸브는 ** ± 0.1%** 내에서 압력을 제어 할 수 있습니다.

 

빠른 반응, 생산 효율성 향상

공압 액추에이터 (예 : 실린더 및 진공 흡입 컵)는 빠른 응답 속도를 가지며 밀리 초로 스위칭 또는 취급 작업을 완료 할 수 있으며 칩 제조에서 고지대 생산의 요구를 충족시킬 수 있습니다.

 

내구성이 강하고 유지 보수 비용이 낮습니다

전기 또는 유압 시스템과 비교하여 공압 성분은 간단한 구조와 유지 보수 비용이 낮으며 오랫동안 오랫동안 작동하는 반도체 생산 라인에 적합합니다.

 

높은 안전

공압 시스템은 과부하로 인해 과열되지 않으며 폭발성 성능이 우수하며 반도체 생산 환경에서 더 안전하고 신뢰할 수 있습니다.

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자회사 : Hangzhou Evershine 공압 수입 및 수출 회사, Ltd.

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